導電布應該怎樣進行分類
日期: 2021.7.08

導電布應該怎樣進行分類

導電布是以纖維布(常用的聚酯纖維布)為基材制成的。經過預處理后,采用電鍍金屬涂層使其具有金屬特性,成為導電纖維布。可分為鍍鎳布、鍍金布、鍍碳布和鋁箔纖維復合布。外觀樸素,方格分明。

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真空鍍膜機設備采購要點如下介紹
日期: 2021.6.17

真空鍍膜機設備采購要點如下介紹

真空鍍膜機在產品表面處理方面有較大的優點。與其他表面處理設備相比,這種涂布機的加工需要在真空環境下進行。這種鍍膜方法可以“屏蔽”一些外界因素,這是這種鍍膜機的優點之一。

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磁控濺射技術的優缺點分析介紹
日期: 2021.6.03

磁控濺射技術的優缺點分析介紹

磁控濺射技術自誕生以來,得到了較快的發展和較廣的應用,對其他鍍膜方法的發展產生了很大的影響。通過大量的實踐,青州市中拓鍍膜機械科技有限公司總結出這種技術的優缺點,如下文所示。

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真空鍍膜機的介紹
日期: 2021.5.19

真空鍍膜機的介紹

一、真空鍍膜機冷卻配套冷水機的作用 鍍膜機冷水機組的作用是維持鍍膜機的溫度,從而達到比較高的精度、高效率的溫度控制的目的。以往,在沒有冷水機組的情況下,自然水和冷卻塔不可避免地受到自然溫度的影響,這種

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光學鍍膜機的維護和保養
日期: 2021.4.22

光學鍍膜機的維護和保養

光學鍍膜機主要由真空鍍膜機房、抽真空機組和電氣柜(控制柜、電子槍柜)組成。較廣的應用于微電子、光學成膜、民用裝飾、表面工程等領域。

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磁控濺射設計體系的建立
日期: 2021.4.08

磁控濺射設計體系的建立

磁控濺射涂層的厚度均勻性是間接測量涂層過程的標準之一,它涉及到涂層過程的各樣的方面。因此,需要建立一套完整的濺射膜厚度均勻性設計體系,制備薄膜厚度均勻性好的優良的薄膜,并對濺射膜的各方面進行分類、總結

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導電布的應用和功能介紹
日期: 2021.3.25

導電布的應用和功能介紹

導電布由尼龍或聚酯纖維制成,涂有銅和鎳。纖維表面的底層由高導電性銅制成。纖維表面為抗氧化、耐腐蝕的鎳金屬。銅和鎳的結合提供了高導電性和屏蔽效能。

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磁控濺射的種類有哪些
日期: 2021.3.11

磁控濺射的種類有哪些

磁控濺射包括多種。它們有不同的工作原理和應用對象。但有一個共同點:利用磁場和電場的相互作用,電子會繞目標表面旋轉,從而增加電子撞擊氬產生離子的概率。在電場作用下,產生的離子與目標表面碰撞,并濺出目標。

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磁控濺射技術的優點分析
日期: 2021.2.05

磁控濺射技術的優點分析

磁控濺射鍍膜是現代工業中不能缺少的技術之一。濺射鍍膜技術較廣的應用于透明導電膜、光學膜、超硬膜、防腐膜、磁性膜、減反射膜、減反射膜及各裝飾膜。在國防和國民經濟生產中發揮著越來越重要的作用。

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導電布的一般情況介紹
日期: 2021.1.23

導電布的一般情況介紹

導電布包覆泡棉 (FOF) EMI 襯墊具備普遍的優良電磁干擾屏蔽性能,為電磁干擾提供優良的解決方案。襯墊由布包裹柔軟的泡棉組成,提供非導電或導電壓敏膠帶(PSA),并可在膠帶上附上一層離型膜 (ER

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磁控濺射的新發展分析
日期: 2021.1.09

磁控濺射的新發展分析

輝光等離子體濺射的基本過程是在輝光等離子體中的高能離子作用下,將負電極的靶原子從靶中濺射出來,然后凝聚在襯底上形成薄膜;在這個過程中,靶表面同時發射出二次電子,起到電子作用維持等離子體穩定存在的關鍵作

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導電布的性能和區別
日期: 2020.12.26

導電布的性能和區別

導電布是以纖維布(常用的聚酯纖維布)為基材制成的。經過預處理后,采用電鍍金屬涂層使其具有金屬特性,成為導電纖維布。可分為鍍鎳布、鍍金布、鍍碳布和鋁箔纖維復合布。外觀樸素,方格分明。

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磁控濺射的工作原理
日期: 2020.12.12

磁控濺射的工作原理

磁控濺射是一種物理氣相沉積(PVD)技術。一般濺射法可用于制備金屬、半導體、絕緣體等材料,具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大、附著力強等優點。20世紀70年代發展起來的這種方法實現了高速、低溫和低損傷

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光學鍍膜機的薄膜的特點是什么
日期: 2020.11.28

光學鍍膜機的薄膜的特點是什么

光學薄膜是在高真空鍍膜腔中實現的。傳統的鍍膜工藝需要增加基底溫度(通常約300℃),而優良的技術,如離子輔助沉積(IAD)可以在室溫下進行。光學鍍膜機不但可以制備出比傳統鍍膜工藝具有更好物理性能的薄膜

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導電布的電阻測試
日期: 2020.11.14

導電布的電阻測試

導電布是由尼龍或聚酯纖維制成,涂有銅、鎳和其他金屬。光纖表面的底層由高導電性的銅制成。纖維表面為鎳,具有抗氧化性和耐腐蝕性。銅和鎳的結合提供了高導電性和屏蔽效能,并具有抗氧化和防腐蝕的特點。

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薄膜設備的生產功能和特點
日期: 2020.10.31

薄膜設備的生產功能和特點

工業上生產塑料薄膜設備有壓延法和擠出法兩種。擠出過程分為擠出吹塑、擠出拉伸和擠出鑄造。目前應用比較廣的生產工藝是擠出吹塑、擠出拉伸和擠出鑄造,尤其是聚烯烴薄膜,而壓延主要用于生產一些PVC薄膜。

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磁控濺射的特點
日期: 2020.10.10

磁控濺射的特點

磁控濺射常見的反應氣體有氧、氮、甲烷、乙炔、一氧化碳等,在濺射過程中,根據反應氣體壓力的不同,反應過程可以發生在襯底上,也可以發生在陰極上(反應結束后,以化合物的形式遷移到基片上)。當反應氣體壓力較高

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光學鍍膜機的維護方法
日期: 2020.9.26

光學鍍膜機的維護方法

光學鍍膜機主要由真空鍍膜機房、抽真空機組和電氣柜(控制柜、電子槍柜)組成。較廣的應用于微電子、光學成膜、民用裝飾、表面工程等領域。

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磁控濺射的濺射方法
日期: 2020.9.12

磁控濺射的濺射方法

濺射鍍膜是一種在真空室中用高能粒子轟擊靶表面的技術。靶中的原子和其他粒子被粒子動量轉移擊落,沉淀在襯底上形成薄膜。濺射工藝具有濺射面積小、濺射材料可控制性較強、濺射速度快等優點。

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多功能鍍膜機的真空類設備其構成
日期: 2020.8.09

多功能鍍膜機的真空類設備其構成

多功能鍍膜機是如何組構成的?我們可能對于這個產品比較熟悉了,我們今天想為大家分享的是一款新型的設備--多功能真空鍍膜機,這款多功能鍍膜機是磁控濺射、蒸發鍍膜以及多弧離子的一種混合型設備,是在多弧離子鍍

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