磁控濺射技術的優點分析介紹

2021-12-30

  磁控濺射鍍膜是現代工業中不能缺少的技術之一。濺射鍍膜技術較廣的應用于透明導電膜、光學膜、超硬膜、防腐膜、磁性膜、減反射膜、減反射膜及各裝飾膜。在國防和國民經濟生產中發揮著越來越重要的作用。鍍膜過程中的膜厚均勻性、沉積速率和靶材利用率等問題是實際生產中比較關心的問題。解決這些實際問題的方法是優化濺射沉積過程中的各因素,建立一套完整的濺射沉積設計體系。薄膜厚度均勻性是測試濺射沉積過程的重要參數之一,因此研究薄膜厚度均勻性的綜合設計具有重要的理論和應用價值。

  在濺射技術的發展中,各技術一般集中在等離子體的產生和等離子體的控制上。通過控制空間中各粒子的電磁場、溫度場和分布參數,薄膜的質量和性能可以符合各工業的要求。

  薄膜厚度的均勻性與磁控濺射靶材的工作狀態密切相關,如靶材的刻蝕狀態、靶材的電磁場設計等,因此,為了保持薄膜厚度的均勻性,國外的薄膜制備公司或鍍膜設備制造公司都有自己的優缺點整套涂裝設備設計方案(包括核心部件“目標”)。同時,有許多公司從事目標分析、設計和制造,并根據客戶的要求開發相關的應用設計軟件,對設備進行優化設計。涂裝設備的分析和設計與優良水平還有很大差距。

  因此,建立一套完整的濺射鍍膜設計系統石旭耀做的。系統的建立可以從整體綜合設計到局部設計,再從局部設計逐步到整體綜合設計,即“整體到局部,再到整體”的動態設計理念,不斷完善設計體系。本文列舉了影響濺射鍍膜的重要因素,找出了它們之間的內在聯系,建立了濺射鍍膜的綜合設計體系。在此基礎上,對薄膜厚度均勻性進行了研究,為以后轉化為設計系統軟件鋪平了道路,從而實現了大面積薄膜的制備,具有良好的薄膜均勻性,磁控濺射為生產提供了有力的保障。


99精品视频在线观看免费_国产在线精品一区二区不卡_亚洲人成人无码www_秋霞电影网理论片韩国在线观看